濕法制程整體解決方案提供商
IPA干燥設備-華林科納CSE
華林科納（江蘇）CSE-IPA干燥設備主要用于材料加工 太陽能電池片 分立器件 GPP等行業中晶片的沖洗干燥工藝，單臺產量大，效率高
設備名稱
華林科納（江蘇）CSE-IPA干燥設備
應用范圍
適用于2-8”圓片及方片
動平衡精度高
規格
工藝時間：?一般< 10 分鐘，受所選工藝菜單而變化
親水性晶圓片：?≤10 增加?@ 0.12 μm
疏水性晶圓片：?≤30 增加?@ 0.12 μm
金屬含量：?任何金屬≤?1?1010 atoms / cm2 增加
干燥斑點：?干燥后無斑點
IPA 消耗量：?≤ 30 ml / run
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設備制造商
華林科納（江蘇）半導體設備有限公司 www.changpingnews.cn?400-8768-096 ；18913575037
IPA 干燥系統組成:
IPA干燥工藝原理 01:
IPA干燥工藝原理 02:
更多的IPA干燥系統設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網（www.changpingnews.cn），現在熱線咨詢0513- 87733829可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
IPA 干燥系統
適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術
優點
NID?干燥系統利用IPA和N2霧化分配，以及晶圓與水脫離時形成了表面張力干燥的技術
●可單臺設備或整合在濕法設備中
●最佳的占地
●成熟的工藝
●無水跡
?●無碎片
特征和優點
應用
拋光片、集成電路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片
一般特征
●可同時干燥25到50片直徑最大為300mm的晶圓
●適用于標準高邊或低邊花籃